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在太空呼吸一口会怎么样,外太空呼吸是什么感觉 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产权局局(jú)长申长雨在新闻发布会上表(biǎo)示,将统筹(chóu)推进各类(lèi)知识产权(quán)法律法规和(hé)制度规则的制修订(dìng)工作。其中(zhōng),修(xiū)改完善集(jí)成电路布图设计保护条例(lì),适应(yīng)大规(guī)模(mó)集成电路发展需要(yào),助力芯片(piàn)产业(yè)做大做(zuò)强,服(在太空呼吸一口会怎么样,外太空呼吸是什么感觉fú)务数字经济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技(jì)术等新领(lǐng)域新业(yè)态知识产(chǎn)权(quán)规(guī)则研究,助(zhù)力(lì)相关(guān)领域创新(xīn)发展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好对接高(gāo)标准(zhǔn)国际经贸(mào)规(guī)则,助力高(gāo)水平对外(wài)开(kāi)放。

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